硫氮碳共渗剂及工艺参数
<TABLE class=table1 borderColor=#b5dba2 cellSpacing=0 cellPadding=0 width=770 border=1><TBODY>
<TR bgColor=#b5dba2>
<TD class=blk12 align=middle width=72 bgColor=#fdfbea rowSpan=2>方法</TD>
<TD class=blk12 align=middle width=67 bgColor=#fdfbea rowSpan=2>商品名称或代号</TD>
<TD class=blk12 align=middle width=227 bgColor=#fdfbea rowSpan=2>渗剂成分或配方</TD>
<TD class=blk12 align=middle width=128 bgColor=#fdfbea colSpan=2>工艺参数</TD>
<TD class=blk12 align=middle width=66 bgColor=#fdfbea rowSpan=2>生产周期<BR>(h)</TD>
<TD class=blk12 align=middle width=202 bgColor=#fdfbea rowSpan=2>备注</TD></TR>
<TR>
<TD class=blk12 align=middle width=69 bgColor=#fdfbea>温度(℃)</TD>
<TD class=blk12 align=middle width=59 bgColor=#fdfbea>时间(h)</TD></TR>
<TR>
<TD>熔盐法</TD>
<TD>Sursulf</TD>
<TD>工作盐浴(基盐)CR<SUB>4</SUB>由钾,钠,锂的氰酸盐与碳酸盐和少量硫化钾组成:再生盐CR<SUB>2</SUB>用于调整成分</TD>
<TD>500～590(常用560～580)</TD>
<TD>0.2～3</TD>
<TD>0.3～3.5</TD>
<TD>法国于1975年开;无污染,应用面广,处理时间通常为1~2h.本工艺已取代高氰熔盐法</TD></TR>
<TR>
<TD>熔盐法</TD>
<TD>LT工艺</TD>
<TD>工作盐浴为基盐J-1,成分与法国CR<SUB>4</SUB>相同.加以调整的J-2基盐(无硫)则用于氮碳共渗或QPQ处理.再生盐Z-1与CR<SUB>2</SUB>相同可用于调整硫氮碳共渗或氮碳共渗熔盐的成分</TD>
<TD>500～590(常用550～580)</TD>
<TD>0.2～3</TD>
<TD>0.3～3.5</TD>
<TD>国家"六五"重点科技攻关成果,兼具Sursulf及西德的Melonite,QPQ工艺的功能，SNC共渗后的工件直接转入Y-1氧化浴（性以下AB1浴相同）的LTC-1处理与法国oxynit无异</TD></TR>
<TR>
<TD>熔盐法</TD>
<TD>JIHBT-6a</TD>
<TD>57%(NH<SUB>2</SUB>)<SUB>2</SUB>CO</TD>
<TD>500～590</TD>
<TD>0.5～3</TD>
<TD>0.7～3.5</TD>
<TD>原料无毒，工作状态下不断形成KCN，NaCN，有较大的毒性</TD></TR>
<TR>
<TD>熔盐法</TD>
<TD>JIHBT-6a</TD>
<TD>38%K<SUB>2</SUB>CO<SUB>3</SUB></TD>
<TD>500～590</TD>
<TD>0.5～3</TD>
<TD>0.7～3.5</TD>
<TD>原料无毒，工作状态下不断形成KCN，NaCN，有较大的毒性</TD></TR>
<TR>
<TD>熔盐法</TD>
<TD>JIHBT-6a</TD>
<TD>5%Na<SUB>2</SUB>S<SUB>2</SUB>O<SUB>3</SUB></TD>
<TD>500～590</TD>
<TD>0.5～3</TD>
<TD>0.7～3.5</TD>
<TD>原料无毒，工作状态下不断形成KCN，NaCN，有较大的毒性</TD></TR>
<TR>
<TD>气体法</TD>
<TD>-</TD>
<TD>5%NH<SUB>3</SUB>0.02～2%H<SUB>2</SUB>S,丙烷与空气制得的载气(余量)</TD>
<TD>500～650</TD>
<TD>1～4</TD>
<TD>2～5</TD>
<TD>必要时加滴碳当量小的煤油或苯，以提高碳势</TD></TR>
<TR>
<TD>气体法</TD>
<TD>-</TD>
<TD>每1LC<SUB>6</SUB>H<SUB>6</SUB>中溶入25g(C<SUB>6</SUB>H<SUB>4</SUB>)<SUB>2</SUB>NHS及9gS:NH<SUB>3</SUB>适量</TD>
<TD>500～650</TD>
<TD>1～4</TD>
<TD>2～5</TD>
<TD>在通氨的同时,滴入CS<SUB>2</SUB>或其它含硫的有机液体供硫剂(例如将NH<SUB>4</SUB>CNS溶入C<SUB>2</SUB>H<SUB>5</SUB>OH中)均可</TD></TR>
<TR>
<TD>气体法</TD>
<TD>KYGS块</TD>
<TD>每1L含C,N的有机物液体(例如CH<SUB>3</SUB>OH与HCONH<SUB>2</SUB>各半中加入(NH<SUB>2</SUB>)<SUB>2</SUB>及H<SUB>3-</SUB>BO<SUB>3</SUB>各8g</TD>
<TD>540～570</TD>
<TD>1～2</TD>
<TD>2～3</TD>
<TD></TD></TR>
<TR>
<TD>膏剂法</TD>
<TD>-</TD>
<TD>37%ZnSO<SUB>4</SUB></TD>
<TD>550～570</TD>
<TD>2～4</TD>
<TD>3～5</TD>
<TD>适用于单件或小批生产的大工件的局部表面强化</TD></TR>
<TR>
<TD>膏剂法</TD>
<TD>-</TD>
<TD>18.5%K<SUB>2</SUB>SO<SUB>4</SUB>(或18.5%Na<SUB>2</SUB>SO<SUB>4</SUB>)</TD>
<TD>550～570</TD>
<TD>2～4</TD>
<TD>3～5</TD>
<TD>适用于单件或小批生产的大工件的局部表面强化</TD></TR>
<TR>
<TD>膏剂法</TD>
<TD>-</TD>
<TD>37.5%Na<SUB>2</SUB>S<SUB>2</SUB>O<SUB>3</SUB></TD>
<TD>550～570</TD>
<TD>2～4</TD>
<TD>3～5</TD>
<TD>适用于单件或小批生产的大工件的局部表面强化</TD></TR>
<TR>
<TD>膏剂法</TD>
<TD>-</TD>
<TD>7%KCNS</TD>
<TD>550～570</TD>
<TD>2～4</TD>
<TD>3～5</TD>
<TD>适用于单件或小批生产的大工件的局部表面强化</TD></TR>
<TR>
<TD>膏剂法</TD>
<TD>-</TD>
<TD>14%H<SUB>2</SUB>O(另加)</TD>
<TD>550～570</TD>
<TD>2～4</TD>
<TD>3～5</TD>
<TD>适用于单件或小批生产的大工件的局部表面强化</TD></TR>
<TR>
<TD>粉末包装(固体)法</TD>
<TD>-</TD>
<TD>35～60FeS</TD>
<TD>550～650</TD>
<TD>4～8</TD>
<TD>5～9</TD>
<TD>效率低,有粉尘污染</TD></TR>
<TR>
<TD>粉末包装(固体)法</TD>
<TD>-</TD>
<TD>10～20K<SUB>4</SUB>Fe(CN)<SUB>6</SUB></TD>
<TD>550～650</TD>
<TD>4～8</TD>
<TD>5～9</TD>
<TD>效率低,有粉尘污染</TD></TR>
<TR>
<TD>粉末包装(固体)法</TD>
<TD>-</TD>
<TD>石墨粉(余量)</TD>
<TD>550～650</TD>
<TD>4～8</TD>
<TD>5～9</TD>
<TD>效率低,有粉尘污染</TD></TR>
<TR>
<TD>离子法</TD>
<TD>-</TD>
<TD>CS<SUB>2</SUB></TD>
<TD>550～650</TD>
<TD>1～4</TD>
<TD>2～5</TD>
<TD>可用含S的有机溶液代CS<SUB>2</SUB></TD></TR>
<TR>
<TD>离子法</TD>
<TD>-</TD>
<TD>NH<SUB>3</SUB></TD>
<TD>550～650</TD>
<TD>1～4</TD>
<TD>2～5</TD>
<TD>可用含S的有机溶液代CS<SUB>2</SUB></TD></TR></TBODY></TABLE>
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