电镀添加剂的不妥分类及其不良后果（三）

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　　3.2高染料型光亮剂的分类
5 J, I+ B% Y; ^9 F1 F( d6 P　　进口的酸铜光亮剂一般分为MU(开缸剂)和A、B两种。但有的人将补给剂A称为填平剂，B称为光泽剂，这是不妥的。因为只补加光泽剂而缺少填平剂，光亮性仍不好(要达镜面效果，既要整平好又要很光亮)；只补加填平剂而缺少光亮剂，高中Jk区仍难达镜面光亮，且镀层易发雾，泛彩，特别是液温较低时。最好称为补加剂A、补加剂B。使用中应通过赫尔槽试验确定二者最佳补给量，以免望文生义，凭感觉乱加，导致低Jk区镀层发暗黑(采用德国原装的生产液试验时发现这一故障，电解消耗后能不暗黑，但低Jk区整平性又下降)。
　　3.3低、微染料型补加剂的分类
# z0 G( Z; o4 ?+ u* T2 ^8 d　　由于高染料型存在的诸如最佳液温范围窄、因染料盐析与聚沉而使镀层易起麻砂等固有缺陷，国内一些学者主张开发低Jk区光亮整平性好的无染料型，但难度大，至今无成功工艺问世。作为过渡，出现了一些低、微染料工艺。这类工艺必然是M、N、Sp和P的改良型，于其中加入低区走位物与少量优质染料。
　　3.3.1分为二液型的问题
　　有将酸铜微染料型分为开缸与补加二液型商品的。显然，在补加剂中必然同时存在配比定额的M、N、Sp、P、低区走位剂与染料。补加剂只用一种，存在如下问题(多年自配该体系的实践体会)：M与N在不同液温下的消耗速率相差很大。液温高时，M消耗速率远大于N；而液温低于15℃时，消耗速率相近，甚至N略大于M。故在大生产时，应及时微调，夏天甚至需两天调一次。试验调整频繁且需具相当经验，否则绝对用不好M、N、Sp、P体系。若补加剂仅一种，新配液效果可能也很好(毕竟产品推出前在实验室会对新配液做试验，得出良好配方)，但大生产使用一段时间，比例失调必然造成效果变差，而对该体系缺乏深入了解的人无法自调。以一实例说明：某厂采用国内某大公司该类产品一段时间，效果变差。笔者取液在I=2A下，于赫尔槽搅拌试验，试片低端近2cm不亮且侧看泛红，高中Jk区亮度尚可但难达镜面。凭多年经验，先单独补加M，有很大好转，再补少量N且在同样条件下电镀，不但低区全光亮，高中Jk区立即呈镜面光亮。可见故障液中比例已失调：M过少、N略少，而Sp与P尚够。
　　3.3.2分为高位剂与低位剂的问题
& z7 _$ {: J7 v$ B2 }　　有人将微染料型酸铜光亮剂分为高位剂与低位剂。笔者认为，如此分类至少存在两个问题：一、缺少Sp与P，低Jk区光亮整平性不良，而缺少M、N则高、中Jk区仍难达完全镜面光亮；二、低位剂中若将M、N按一定比例混合，必然会出现如前所述的二液型开始好用但M与N比例失调后效果变差的问题。
5 e+ Q/ k7 h! |; K( `2 ]% X　　顺便提及，使用低区走位物质应小心为妙。笔者以前就对GISS(聚乙烯亚胺烷基化合物)与AESS(脂肪胺乙氧基磺化物)作过对比试验并撰文讨论过：GISS用量仅AESS一半，但会降低镀层整平性(原因是抵消了Sp的作用)，二者加入过多，镀层特别是液温高时的低Jk区易发灰雾。近来对“高温载体”PN(聚乙烯亚胺烷基盐)深入试验后，发现两个现象：其一，PN同样降低镀层低Jk区的整平性；其二，在高纯PN水溶液中，无论加酸或加碱，溶液均发白浑浊。而含染料的光亮剂又必须用硫酸或冰醋酸调至酸性，否则在光亮剂中染料易析出沉底(估计多为碱性染料)。故PN能否与染料共存于光亮剂中，尚有待试验研究。
: F1 T# F9 e" O7 g　　综上所述，低染料、微染料型应分为开缸剂MU、补加剂A和补加剂B，且最好将M与N分别放在A与B中，便于大生产中调整其比例。研制酸铜光亮剂应与生产经验相结合，未经较长时间中试的实验室产物，不要轻易推向市场，否则自找麻烦。
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