材料生产设备--MPCVD薄膜制备装置

优普莱

适合的应用：
9 m, D- y0 B; i- f; P化学气相沉积法制备石墨烯薄膜、碳纳米管薄膜、富勒烯、金刚石膜和类金刚石膜等高品质碳纳米薄膜材料；
化学气相沉积法制备其他高品质无机薄膜；
/ z' d. `$ G2 z等离子体清洗、微波烧结、金属表面强化和高聚物表面改性等。

产品特点：
: l" H/ t3 M  q* k微波频率2.45GHz，微波功率连续可调，可长时间连续工作；
$ A- Z" c* Z& ^7 V微波等离子体装置能量转化效率高，等离子体活性强密度高，无电极放电，从而避免了电极污染；
9 r" I: N( J6 n9 ?产品功率从1kw到5kw，有石英管式、石英钟罩式和金属谐振腔式等多种产品形式；
产品配有可升降的基片台和反应气体均流措施，改善了沉积环境；
, L1 n! R, t" c. |1 t基片台可选加热和水冷配置以及偏压电场；
两路至四路气体可选，气体流量控制采用MFC或转子流量计，气路管道电化学抛光；
2 {. E4 h) V/ }2 t( r- K配备冷却水循环系统，无水源要求，确保装置高功率下长时间安全稳定运行；
' s! r- ?$ s& _/ h采用干式／湿式机械真空泵，可选配扩散泵与涡轮分子泵。



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