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干膜电镀时出现破孔与渗镀问题改善办法

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发表于 2011-6-20 22:44:56 | 显示全部楼层 |阅读模式

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  干膜掩孔出现破孔. x+ E5 f+ O. h0 d. u
  很多客户认为,出现破孔后,应当加大贴膜温度和压力,以增强其结合力,其实这种观点是不正确的,因为温度和压力过高后,抗蚀层的溶剂过度挥发,使干膜变脆变薄,显影时极易被冲破孔,我们始终要保持干膜的韧性,所以,出现破孔后,我们可以从以下几点做改善:
8 h+ L) x! i; k% r7 F1 X5 {  曝光能量偏高或偏低
; U# o7 U. x$ C( ?4 f4 y1 J3 m6 F% d  在紫外光照射下,吸收了光能量的光引发剂分解成游离基引发单体进行光聚合反应,形成不溶于稀碱的溶液的体型分子。曝光不足时,由于聚合不彻底,在显影过程中,胶膜溶胀变软,导致线条不清晰甚至膜层脱落,造成膜与铜结合不良;若曝光过度,会造成显影困难,也会在电镀过程中产生起翘剥离,形成渗镀。所以控制好曝光能量很重要。
) D/ t6 j* \7 _( @6 g# H/ O, |4 S; ]文章关键词:
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