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抛光常见疵病产生原因及克服方法

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发表于 2011-6-20 22:44:56 | 显示全部楼层 |阅读模式

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  划痕
' J( m+ x4 ~  b, \0 A# W/ V  产生原因/ f. J7 d# N7 ~4 y
  1)抛光粉粒度不均匀或混有大颗粒机械杂质4 A8 }7 s: B. e) o  E
  2)工房环境不洁净2 X2 ~! @6 A+ T- R1 V  l* W' [
  3)抛光材料(抛光胶或聚胺脂及粘贴胶等)不洁
' v0 C3 l7 x) Q# }  4)擦布不洁及操作者带入灰尘
, h. e+ |. a3 b1 Y2 i  5)精细磨遗留划痕未抛掉或清洗不彻底
& ^! H/ h$ i4 c/ W, ~8 M3 R3 I  6)检查光圈工件或样板不干净、方法不当
9 b' h# B% N! A2 ?" d4 r  7)抛光材料(抛光胶或聚胺脂)偏硬、使用时间长
- W2 I+ K9 f0 [2 z( v- |6 w  表面起硬壳或边缘有干硬堆积物" {. k$ E, ?5 b4 X7 A
  8)抛光模与镜盘不吻合
5 b% ]4 J) ^, b, G2 _- U* D' L  9)辅助工序(下盘、清洗、周转、保护漆未干等)造成
) O6 ?& S, Q+ _$ u0 V3 I/ Z8 c8 R  克服方法
, O% ]+ U3 Z. `3 E  1)选用粒度均匀和与玻璃材料对应抛光粉/ v7 Q+ X0 ~8 a/ y2 i) }
  2)做好“5S”工作
! y( M+ a* R5 ?% K  3)保管好所需用品2 _: D8 X- _* n
  4)擦布清洗保管及操作者穿戴好工作服和帽子# ?9 ~5 W8 \4 f' m- G3 h9 O9 c- l
  5)应自检  z9 d( c/ m, T/ t+ l* T: p3 J$ L
  6)正确使用样板
# e8 I0 k  F1 \  c+ e  7)选用合适抛光材料(抛光胶或聚胺脂),周期更换,对改或修刮抛光模
& ]; ?8 y/ A+ N1 y3 Z  8)对改或修刮、重新制作抛光模9 i  I" A9 e" P# q' Z" [  O
  9)按各辅助工序操作规程加工
; z8 p+ G7 |$ d6 Q# Z  麻点:; N( N& ?8 \0 [. T1 `0 [2 c; @
  产生原因4 Y: L8 T+ ?! r3 m
  1)精细磨、抛光时间不够
  i+ q+ p$ I* }% L) o  2)精细磨面立不均匀或中间与边缘相差大1 |/ N$ }+ S: z* B$ v% {
  3)有粗划痕抛断后的残迹) k/ c3 s; v# [  }+ \( P' r7 {
  4)方形或长方形细磨后塌角$ q" d8 C: s/ p) s8 e+ v. n
  5)零件在镜盘上由于加工造成走动
5 k4 Q5 M+ ]" v3 K; @2 }  6)精细磨面形误差太大,尤其是偏高,易造成边缘抛光不充分
  l0 L/ w# h9 w  7)抛光模加工时间过长或抛光液使用时间长而影响抛光效率+ z9 x& P6 p: R: |" i; j
  克服方法4 P: p# C# O+ M
  1)精细磨应除去上道粗砂眼,抛光时间应足够" t$ c" U! b" Z) s2 N, U* k! H% s
  2)精细磨光圈匹配得当,应从边缘向中间加工, s# l: s. e# h0 t
  3)发现后应作出标识单独摆放或重抛
  s5 _1 O1 s) k+ C$ c  4)用开槽平模细模、添加砂要均匀" O  N9 ?9 i3 b( O) R; c
  5)选用适当的粘结胶,
( [7 S! x1 U1 j4 S; Y$ L  控制工序温度和镜盘忽冷忽热,粘结胶厚度应符合标准6)精细磨各道光圈匹配应严格按工艺操作指导卡操作$ v, O) ^( T1 e. l' L
  7)更换抛光皮及抛光液的各项指标(比重、PH值等)周期性管理" x3 t5 C3 {" B0 W% ~( M
  印迹
; \# a8 Q2 p; y, g2 C4 ]  1)抛光模与镜盘吻合不好出现油斑痕迹
" W1 |* ?: `3 l' ^' q8 Q2 u  2)玻璃化学稳定性不好
7 G, m' x$ [# B6 X. H$ f  3)水珠、抛光液、口水沫等未及时擦拭干净
4 t) P6 \  h+ L. J1 }& a9 N  印子多产生于化学稳定性较差的玻璃,添加剂的作用主要是在稳定抛光液PH值的同时也增加了镜片表面残留的一些憎水性物质,增强镜片的耐水性.除添加剂外还应尽量减少加工过程中热量的产出.; g+ S' c, T; [
  克服方法
/ ?. M, z# h9 \" m  1)选用合适的抛光胶,修刮或对改(聚胺脂)抛光模使之吻合
9 \3 P! F2 T% n, Z3 S4 d: K  2)抛光中产生的印迹可以选用适当的添加剂;而完工后产生的印迹可以保护漆
; e9 h0 o8 F( [: |. u; O- Q  3)避免对着工件讲话,如下盘擦不干,应擦净,对化学稳定性不好玻璃还应烘干
" ^% w2 t- }: {1 {0 c+ X  光圈变形8 R: T2 e3 G. r9 Q
  1)粘结胶粘结力不适
3 q' K  H/ X; c  2)光圈未稳定既下盘
) {' j) C; V# v) y  p  3)刚性盘加工时,刚盘使用时间较长未检测(沉孔脏或变形)
9 a, p3 P$ ^, V3 \% `: X  4)刚性盘加工时被加工工件外圆偏大,上盘方法不当等! L0 L/ {1 m. F4 }$ x# U
  克服方法+ D7 Z* H4 e" _" T2 Z1 H3 V
  1)光圈变形主要发生在较薄的零件或不规则的零件,应采用适当的上盘方法8 w3 a4 n1 d4 u: @) l
  2)应按工件大小给予一定的光圈稳定时间
2 |( y* V3 R, N5 X% E4 W  3)刚盘定期进行检测和修正
5 [3 Y8 ?, d+ ^5 \3 E6 Q2 G  4)严格按工艺和上盘操作规程加工【MechNet】
! d# ?! P- ^$ _2 {$ z文章关键词: 抛光
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