材料生产设备--MPCVD薄膜制备装置

优普莱

适合的应用：
( |/ S( i9 a! b; {- p( v* L) I  L  e( B+ o化学气相沉积法制备石墨烯薄膜、碳纳米管薄膜、富勒烯、金刚石膜和类金刚石膜等高品质碳纳米薄膜材料；
1 t! h" K% v; W) Z化学气相沉积法制备其他高品质无机薄膜；
& e1 S* k! y3 U/ b. D  \$ p: ~  c等离子体清洗、微波烧结、金属表面强化和高聚物表面改性等。

产品特点：
& y9 z  w" s% g! d% h0 @8 x/ w0 V微波频率2.45GHz，微波功率连续可调，可长时间连续工作；
+ q7 p0 `/ ?0 X- {7 }3 T4 g微波等离子体装置能量转化效率高，等离子体活性强密度高，无电极放电，从而避免了电极污染；
产品功率从1kw到5kw，有石英管式、石英钟罩式和金属谐振腔式等多种产品形式；
, l7 j8 g. ~' T+ y产品配有可升降的基片台和反应气体均流措施，改善了沉积环境；
基片台可选加热和水冷配置以及偏压电场；
两路至四路气体可选，气体流量控制采用MFC或转子流量计，气路管道电化学抛光；
/ S/ O* Z& f( D配备冷却水循环系统，无水源要求，确保装置高功率下长时间安全稳定运行；
2 H* A+ C: }/ P0 }4 w1 C9 _+ w采用干式／湿式机械真空泵，可选配扩散泵与涡轮分子泵。

- Z6 g# g; i. V* \& z( [+ p
/ G8 _5 G' `6 H. i/ P
2 K5 F0 I  l0 C# [! o, j